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新一代蚀刻气体——六氟-1,3-丁二烯C4F6

新一代干法蚀刻气体六氟-1,3-丁二烯C4F6,可用于蚀刻二氧化硅和氮化硅此类介质材料,作为特种电子气体从属于电子工业体系。当前,电子工业已经成为支撑国民经济可持续发展和保障国家战略安全的核心工业体系。特种电子气体是整个电子工业体系的核心关键原材料之一,在国防军事、航空航天、新型太阳能电池、电子产品等方面有着极其广泛的应用。

目前高纯特种电子气体的研发与产业化已作为我国极大规模集成电路制造装备及成套工艺的核心部分被列入我国国家科技重大专项,与大型飞机、载人航天与探月工程等16 个重大专项一起被列入《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020)》。

国务院2016年11月29日颁发的国发〔2016〕67号文件“十三五”国家战略性新兴产业发展规划中指出,要提升核心基础硬件供给能力。提升关键芯片设计水平,发展面向新应用的芯片。加快16/14纳米工艺产业化和存储器生产线建设。而特种电子气体的研发与产业化已作为我国集成电路制造装备及成套工艺的核心部分,显然是受到政策支持的。

在硅片制造厂,一个硅片需要完成450道或更多的工艺步骤,才能得到有各种电路图案的芯片,此过程包括外延、成膜、掺杂、蚀刻、清洗、封装等工序。含氟蚀刻剂广泛应用于半导体或LCD前段制程,主要用于干法蚀刻。含氟蚀刻气体主要包括:CF4、CHF3、CH2F2、CH3F、C2F6、c-C4F8、C4F6、C5F8等。各蚀刻气体用途及特点总结见表1。